手机版 官方微博
官方微信
扫描关注:理想财富微信公众号
理想论坛App
扫描下载理想论坛App
RSS

高纯溅射靶材

[概念]
设置
1716 3 袁弥托8 Lv.5 发表于 · 2020-7-6 16:44 举报 显示全部楼层 复制 正序浏览 |
跳转到指定楼层
       公司主营业务为高纯溅射靶材的研发、生产和销售,主要产品为各种高纯溅射靶材,包括铝靶、钛靶、钽靶、钨钛靶等,这些产品主要应用于超大规模集成电路芯片、液晶面板、薄膜太阳能电池制造的物理气相沉积(PVD)工艺,用于制备电子薄膜材料。目前,公司产品主要应用于半导体、平板显示器及太阳能电池等领域。在超大规模集成电路用高纯金属靶材领域,公司成功打破美国、日本跨国公司的垄断格局,填补了国内电子材料行业的空白。
       超大规模集成电路制造过程中要反复用到的溅射(Sputtering)工艺属于物理气相沉积(PVD)技术的一种,是制备电子薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在高真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。
       一般来说,溅射靶材主要由靶坯、背板等部分构成,其中,靶坯是高速离子束流轰击的目标材料,属于溅射靶材的核心部分,在溅射镀膜过程中,靶坯被离子撞击后,其表面原子被溅射飞散出来并沉积于基板上制成电子薄膜;由于高纯度金属强度较低,而溅射靶材需要安装在专用的机台内完成溅射过程,机台内部为高电压、高真空环境,因此,超高纯金属的溅射靶坯需要与背板通过不同的焊接工艺进行接合,背板起到主要起到固定溅射靶材的作用,且需要具备良好的导电、导热性能。
       在溅射靶材应用领域中,半导体芯片对溅射靶材的金属材料纯度、内部微观结构等方面都设定了极其苛刻的标准,需要掌握生产过程中的关键技术并经过长期实践才能制成符合工艺要求的产品,因此,半导体芯片对溅射靶材的要求是最高的,价格也最为昂贵;相较于半导体芯片,平面显示器、太阳能电池对于溅射靶材的纯度和技术要求略低一筹,但随着靶材尺寸的增大,对溅射靶材的焊接结合率、平整度等指标提出了更高的要求。
推荐的股票名称:江丰电子,股票代码:300666

推荐理由:高纯溅射靶材

时分线 日线 周线 月线
选股日期 股票代码 股票名称 买入价 现价 日最大涨幅
2020-7-6 16:44 300666 江丰电子 71.38 62.54 1.56%
查看全部打赏
  • 红鑫2010+10理想币 +2共享币 : 欢迎参赛.预祝好成绩!

举报

扔鸡蛋(0) 回复

红鑫2010
Lv.8
发表于 2020-7-6 23:24 复制 查看全部楼层
  欢迎参赛.预祝好成绩!

举报

扔鸡蛋(0) 回复

理516888想
Lv.5
发表于 2020-7-6 20:11 复制 查看全部楼层
国内靶材上市公司龙头高纯溅射靶材上市公司高纯溅射靶材的作用四大溅射靶材公司靶材 干什么用的太阳能半导体

举报

点亮(0) 扔鸡蛋(0) 回复

假装在炒股
Lv.5
发表于 2020-7-6 17:22 复制 查看全部楼层
高纯溅射靶材  月线

举报

扔鸡蛋(0) 回复

您需要登录后才可以回帖 登录

本版积分规则 《理想财富服务协议》《免责声明》

论坛问题
微信扫一扫,添加好友咨询
驿站问题
微信扫一扫,添加好友咨询
广告投放
微信扫一扫,添加好友咨询
回顶部 到页底
快速回复 返回顶部 返回列表